一般来说，DUV基本上只能做到25nm，新特尔凭借双工作台的模式做到了10nm，但是却无法达到10nm以下，并且成品率不高。
只有EUV能满足10nm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。
夏芯科技刚买了EUV光刻机，正想往十纳米到二十纳米这个区间的芯片制造工艺而奋斗。
但一下子，EUV、DUV光源都被断了，一时间各大生产车间的负责人那叫一个愁云惨淡。
而夏芯科技总部的高管们此时在会议室中，氛围也压抑的可怕。
“浦东微电子那边能提供替代吗？”夏芯科技dà_boss忽然问道。
“微电子、燕京科一虹源和能做光源或者光刻机的几位国产厂商我们都问过了，能够提供DUV光源，只是光纯度和稳定性略差，需要牺牲几个点的良品率。”有高管回答道。